[삼성전자][공정기술] 반도체교육, 반도체인강 3주차 5일차

| 2020.02.28

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이번 3주차 5일차 강의로 인상깊었던 내용은 CVD강의였습니다.
박막증착 공정에 관심이 많아 이번 강의는 좀 더 기초 개념을 탄탄히 정리할 수 있는 기회였다고 생각됩니다.
학습내용으로는 CVD 공정의 이해, CVD 공정의 특성 이해, CVD 공정 장비의 이해 이런 순서로 진행되었습니다.
학습내용으로 공정 개요를 정리하면 다음과 같습니다.

공정의 정의로
반응기 안에 화학반응 물질을 기화시켜 기체들을 주입하여, 화학작용에 의해 생성된 생성물이 웨이퍼 표면에 증착시키는 방법으로 반응 기체들의 확산 및 흡착, 화학반응에 의해 진행된다는 공정입니다.
CVD 공정의 개념은 Film 원료를 함유하고 있는 Gas 화합물의 반응을 이용하여 기판 위에 Film을 증착 시키는 공정
Film은 고체, 나머지 부산물은 Volatile(휘발) 해야 한다. Activation Energy (반응 에너지)가 존재해아한다.

반응의 Mechanism으로
1. 원료 / 반응 Gas가 웨이퍼 표면에 도달
2. 웨이퍼 표면에서 워료 / 반응 Gas의 흡착
3. 웨이퍼 표면에서 화학반응 및 유동, 핵 형성
4. 웨이퍼 표면으로부터 반응생성물의 이탈
5. 웨이퍼 표면으로부터 반응생성물의 확산

이와 같은 순서로 진행됩니다.

어느 덧 마지막 날인 3주차 5일차까지 강의를 들으며 많은 전공지식들을 정리하고, 또 합격 자기소개서와 취업전략 등을 돌아 볼 수 있는 시간이었습니다.
이번 상반기 모두 취업준비하시는 분들 좋은 일 있었으면 좋겠습니다. 같이 3주차 5일차까지 달려오신 분들 모두 고생하셨습니다. 화이팅!